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22 2024-03

低場(chǎng)核磁是如何助力國產(chǎn)CMP拋光液成功打破國外壟斷？

23 2024-08

前沿應(yīng)用|應(yīng)變對(duì)涂層微觀結(jié)構(gòu)的影響，看低場(chǎng)核磁技術(shù)提供全新視角

前沿應(yīng)用|低場(chǎng)核磁技術(shù)表征熱界面材料(TIMs)柔韌性，助力國產(chǎn)芯片工業(yè)發(fā)展

該課題組提出了一種通過在聚合物網(wǎng)絡(luò)中引入懸掛鏈的解決策略，制備了具有高熱導(dǎo)率（4.50 W/m?k）和優(yōu)異柔韌性的TIMs（伸長(zhǎng)率104%，楊氏模量0.24 MPa）。低場(chǎng)核磁測(cè)試在該應(yīng)用中發(fā)揮了重要作用。

2024-10-25

前沿應(yīng)用|應(yīng)變對(duì)涂層微觀結(jié)構(gòu)的影響，看低場(chǎng)核磁技術(shù)提供全新視角

本應(yīng)用創(chuàng)新性的采用低場(chǎng)核磁技術(shù)，通過測(cè)量不同應(yīng)變下材料的橫向弛豫特性、交聯(lián)密度和微觀結(jié)構(gòu)，研究應(yīng)變對(duì)HTPB涂層材料性能的影響。

2024-08-23

低場(chǎng)核磁是如何助力國產(chǎn)CMP拋光液成功打破國外壟斷？

CMP 全稱為 Chemical Mechanical Polishing，即化學(xué)機(jī)械拋光。該技術(shù)是半導(dǎo)體晶圓制造的必備流程之一，對(duì)高精度、高性能晶圓制造至關(guān)重要。拋光液的主要成分是研磨顆粒，PH值調(diào)節(jié)劑，氧化劑，分散劑；低場(chǎng)核磁弛豫技術(shù)可以區(qū)分出納米顆粒與溶劑的固液界面間那一層薄薄的表面溶劑分子，從而推導(dǎo)出溶劑覆蓋在顆粒表面的比表面積，從而評(píng)價(jià)例如拋光液以及相關(guān)懸浮液樣品的分散性。

2024-03-22

低場(chǎng)核磁助力顆粒在油墨中的分散性評(píng)價(jià)

隨著電子產(chǎn)品迭代升級(jí)性能的需要以及納米技術(shù)在提高材料性能中的優(yōu)異表現(xiàn)，在油墨中添加特殊材料例如聚乙烯吡咯烷酮（PVP）、銅納米顆粒等、銦錫氧化物納米顆粒等，可以進(jìn)一步提高基板的柔韌性和導(dǎo)電性能，這些材料在油墨中的分散性直接影響了產(chǎn)品的使用性能。低場(chǎng)核磁作為新晉的顆粒分散性評(píng)價(jià)手段，發(fā)展成熟，具有快速、在線、無損、綠色等優(yōu)勢(shì)。

2024-03-22